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应用材料面向8.5和6代显示屏,推出pecvd和pvd金属氧化物制造设备
发布日期:2014-08-26

      【日经bp社报道】应用材料公司显示事业部(akt)在10月23~25日于日本横滨举行的2013年国际平板显示器展(fpdi 2013)前不久,推出了面向8.5代、6代和5.5代高清(hd)、超高清(4k)液晶电视屏和oled显示屏的akt 55ks pecvd、akt-pivot 55k dt pvd和akt-pivot 25k dt pvd设备。10月29日,akt高管团队在北京的媒体沟通会上详细介绍了上述设备。

       55ks pecvd系统最多有5个高温处理腔室;2个进出口腔室(dssl),中间采用传送腔;双臂真空机械手。适用于2200mm×2500mm的8.5代基板,玻璃厚度在0.5~0.7mm,机械吞吐量是65片/小时。

       akt 55ks pecvd设备中,利用二氧化硅(sio2)工艺,使金属氧化物(mo)薄膜晶体管(tft)沉积电介质界面有较低的氢含量,确保金属氧化物薄膜晶体管在长期使用中,不会因氢的侵袭影响临界电压的稳定性

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